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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第95位 489件
(2012年:第106位 436件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第86位 460件
(2012年:第108位 382件)
(ランキング更新日:2025年5月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-243350 | ウエハ加工体、ウエハ加工用部材、ウエハ加工用仮接着材、及び薄型ウエハの製造方法 | 2013年12月 5日 | |
特開 2013-242997 | リチウムイオン二次電池 | 2013年12月 5日 | |
特開 2013-241533 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法及び物品 | 2013年12月 5日 | |
特開 2013-243347 | 太陽電池モジュール用シリコーン封止材及び太陽電池モジュール | 2013年12月 5日 | |
特開 2013-239525 | 熱伝導性シート供給体及び熱伝導性シートの供給方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-239632 | モールド作製用ブランクおよびモールドの製造方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-237825 | 含フッ素アルコール化合物を含む硬化性組成物 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-239539 | 光半導体装置用基板とその製造方法、及び光半導体装置とその製造方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-237583 | 使用済合成石英ガラス基板の再生方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-238775 | フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクブランク、フォトマスク、および、パターン転写方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-237824 | 含フッ素アルコール化合物を含む硬化性組成物 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-238777 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および位相シフトマスクの製造方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-239540 | 光半導体装置用基板とその製造方法、及び光半導体装置とその製造方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-238778 | フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-238776 | ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法 | 2013年11月28日 |
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2013-243350 2013-242997 2013-241533 2013-243347 2013-239525 2013-239632 2013-237825 2013-239539 2013-237583 2013-238775 2013-237824 2013-238777 2013-239540 2013-238778 2013-238776
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