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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件 (2013年:第95位 489件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件 (2013年:第86位 460件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5628093 | ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 | 2014年11月19日 | |
特許 5622297 | 光ファイバ | 2014年11月12日 | |
特許 5621749 | 剥離紙用放射線硬化性シリコーン組成物 | 2014年11月12日 | |
特許 5621735 | パターン形成方法及び化学増幅ポジ型レジスト材料 | 2014年11月12日 | |
特許 5623368 | ダイポールリング磁気回路 | 2014年11月12日 | |
特許 5621755 | 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 | 2014年11月12日 | |
特許 5623092 | 発光ダイオードチップとレンズとの一体化構造物の製造方法 | 2014年11月12日 | |
特許 5621753 | リチウムイオン電池用負極材 | 2014年11月12日 | |
特許 5623970 | 樹脂積層体、及び半導体装置とその製造方法 | 2014年11月12日 | |
特許 5623296 | トリシリルアミンの製造方法 | 2014年11月12日 | |
特許 5621729 | コーティング又はポッティング用液剤及びその製造方法、被覆層の形成方法、並びに該被覆層を有する物品 | 2014年11月12日 | |
特許 5617852 | 金属表面処理剤、金属表面処理鋼材及びその処理方法、並びに塗装鋼材及びその製造方法 | 2014年11月 5日 | |
特許 5618903 | シルフェニレン構造及びシロキサン構造を有する重合体およびその製造方法 | 2014年11月 5日 | |
特許 5617799 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 | 2014年11月 5日 | |
特許 5617810 | レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 | 2014年11月 5日 |
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5628093 5622297 5621749 5621735 5623368 5621755 5623092 5621753 5623970 5623296 5621729 5617852 5618903 5617799 5617810
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
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12月1日(日) -
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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