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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6984526 | レジストフィルム積層体及びパターン形成方法 | 2021年12月22日 | |
特許 6984539 | 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び光半導体素子の製造方法 | 2021年12月22日 | |
特許 6984579 | エポキシ樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いて製造された接着フィルム、プリプレグ、多層プリント配線板、及び半導体装置 | 2021年12月22日 | |
特許 6984626 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2021年12月22日 | |
特許 6984656 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物、表面処理剤及び物品 | 2021年12月22日 | |
特許 6985116 | 合成石英ガラス基板用の研磨剤及び合成石英ガラス基板の研磨方法 | 2021年12月22日 | |
特許 6981914 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 | 2021年12月17日 | |
特許 6981933 | 硬化性組成物、該組成物の硬化物、及び該硬化物を用いた半導体装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6981938 | 付加硬化型シリコーン組成物及び半導体装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6981939 | 付加硬化型シリコーン組成物及び半導体装置 | 2021年12月17日 | |
特許 6981945 | パターン形成方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6981949 | ケイ素化合物の製造方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6983059 | ジヒドロキシナフタレン縮合物の製造方法及びジヒドロキシナフタレン縮合物 | 2021年12月17日 | |
特許 6983121 | 加水分解性基含有シリコーン樹脂を含むコーティング組成物、コーティング被膜、および該被膜を有する物品 | 2021年12月17日 | |
特許 6983123 | 粘着性基材、粘着性基材を有する転写装置及び粘着性基材の製造方法 | 2021年12月17日 |
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6984526 6984539 6984579 6984626 6984656 6985116 6981914 6981933 6981938 6981939 6981945 6981949 6983059 6983121 6983123
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