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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件
(2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件
(2010年:第72位 394件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4844768 | 反応性紫外線吸収剤及び硬化性紫外線遮蔽膜形成用塗布液、紫外線遮蔽膜並びに該紫外線遮蔽膜が形成された紫外線遮蔽機能を有する基材 | 2011年12月28日 | |
特許 4844731 | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び自動車用エンジン周辺部品のシール並びに質量減少抑制方法 | 2011年12月28日 | |
特許 4844756 | パターン形成方法 | 2011年12月28日 | |
特許 4844725 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2011年12月28日 | |
特許 4844732 | 発光半導体装置 | 2011年12月28日 | |
特許 4844733 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2011年12月28日 | |
特許 4844761 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 | 2011年12月28日 | |
特許 4844764 | 非水電解質二次電池負極及びそれを用いた非水電解質二次電池 | 2011年12月28日 | |
特許 4845221 | 多孔質ガラス母材の製造方法 | 2011年12月28日 | |
特許 4847426 | レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 | 2011年12月28日 | |
特許 4844726 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2011年12月28日 | |
特許 4840560 | 導電性ローラ及びそのシリコーンゴム弾性層と表層との接着性を向上する方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4842844 | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 | 2011年12月21日 | |
特許 4840564 | 硬質保護被膜形成用光硬化性コーティング剤及び物品 | 2011年12月21日 | |
特許 4840602 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法 | 2011年12月21日 |
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4844768 4844731 4844756 4844725 4844732 4844733 4844761 4844764 4845221 4847426 4844726 4840560 4842844 4840564 4840602
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