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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第154位 288件
(2010年:第184位 275件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第195位 187件
(2010年:第171位 193件)
(ランキング更新日:2025年7月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-137692 | トロポニンIの免疫測定方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-132042 | 透明導電膜用焼結体の原料粉末 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132073 | 金属不純物拡散阻止能を有する石英ガラス | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-131172 | 微小流路送液装置 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-134757 | 有機半導体材料 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132179 | イミノホスファゼニウム塩含有触媒水溶液及びそれを用いるポリアルキレングリコールの製造方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132178 | イミノホスファゼニウム塩のイオン交換方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132177 | チオフェン類の製造方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132542 | 光学フィルム | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132379 | ポリフェニレンスルフィドの製造方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132378 | 水性ポリウレタンエマルションの製造方法及びその製造方法により得られる水性ポリウレタンエマルション | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-133397 | ガラス内部に存在する特定の微小欠陥の表面分析前処理方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-133368 | 試料処理用容器及びそれを用いた試料中の不純物の分析方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-133367 | 脱気装置 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-126933 | 重金属処理剤およびそれを用いた重金属処理方法 | 2011年 6月30日 |
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2011-137692 2011-132042 2011-132073 2011-131172 2011-134757 2011-132179 2011-132178 2011-132177 2011-132542 2011-132379 2011-132378 2011-133397 2011-133368 2011-133367 2011-126933
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7月17日(木) -
7月18日(金) - 東京 千代田区
7月18日(金) -
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7月24日(木) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
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