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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第276位 150件 (2013年:第270位 169件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第275位 146件 (2013年:第326位 122件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-189561 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | 2014年10月 6日 | |
特開 2014-189726 | レンズ形成用感光性樹脂組成物 | 2014年10月 6日 | |
特表 2014-525397 | 3環性ヘテロ環化合物及びJAK阻害剤 | 2014年 9月29日 | |
特開 2014-177378 | 多孔性カーボンナイトライドの製造方法 | 2014年 9月25日 | |
特開 2014-174329 | リソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-175490 | 半導体ウェハの不純物熱拡散処理プロセス | 2014年 9月22日 | 共同出願 |
特開 2014-169452 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | 2014年 9月18日 | |
特開 2014-169463 | トリアジン環含有重合体 | 2014年 9月18日 | |
特開 2014-169464 | トリアジン環含有重合体からなる高屈折率材料およびそれを含む高屈折率膜形成用組成物 | 2014年 9月18日 | |
特開 2014-159620 | スクリーン印刷用触媒インク | 2014年 9月 4日 | |
特開 2014-156493 | テトラヒドロピラン化合物の製造中間体 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-157169 | ポリヒドロキシベンゼンノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-156451 | ピラゾール誘導体および有害生物防除剤 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-152185 | 電荷輸送性ワニス | 2014年 8月25日 | |
特開 2014-152079 | 金属担持コロイダルシリカの製造方法 | 2014年 8月25日 | 共同出願 |
150 件中 16-30 件を表示
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2014-189561 2014-189726 2014-525397 2014-177378 2014-174329 2014-175490 2014-169452 2014-169463 2014-169464 2014-159620 2014-156493 2014-157169 2014-156451 2014-152185 2014-152079
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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