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日産化学工業株式会社

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　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第423位　78件（2010年：第384位　76件）

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日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
再表 2009-75291	光学活性ジニッケル錯体及びそれを触媒とする光学活性アミンの製造方法	2011年 4月28日
再表 2009-75265	レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法	2011年 4月28日
再表 2009-72621	置換ジヒドロアゾール化合物及び有害生物防除剤	2011年 4月28日
特開 2011-79850	アクリロニトリル化合物の製造方法	2011年 4月21日
特開 2011-82236	半導体基板の平坦化方法	2011年 4月21日
再表 2009-69557	３次元パターン形成材料	2011年 4月14日
再表 2009-69712	ブロック化イソシアネート基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物	2011年 4月14日
再表 2009-69429	シリカ含有エポキシ硬化剤及びエポキシ樹脂硬化体	2011年 4月 7日
再表 2009-66735	２−アザアダマンタン類の製造方法	2011年 4月 7日	共同出願
特開 2011-68565	経時的に安定な組成物	2011年 4月 7日
再表 2009-63910	光学活性イソキサゾリン化合物の触媒的不斉合成方法	2011年 3月31日
特開 2011-57617	ジカルボン酸化合物及びそれを含有した熱硬化性樹脂組成物	2011年 3月24日
特開 2011-60373	ハードディスク用被膜形成組成物	2011年 3月24日
特開 2011-57620	脂質ヒスチジンゲル化剤	2011年 3月24日
特開 2011-51940	イソチオシアナト化合物の製造方法	2011年 3月17日

95 件中 61-75 件を表示

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2009-75291 2009-75265 2009-72621 2011-79850 2011-82236 2009-69557 2009-69712 2009-69429 2009-66735 2011-68565 2009-63910 2011-57617 2011-60373 2011-57620 2011-51940

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