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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第270位 169件 (2012年:第291位 145件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第326位 122件 (2012年:第365位 100件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5315994 | ポリアミック酸およびポリイミド | 2013年10月16日 | |
特許 5316808 | 置換イソキサゾリン又はエノンオキシム化合物および有害生物防除剤 | 2013年10月16日 | |
特許 5310549 | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 | 2013年10月 9日 | |
特許 5304981 | 1,3−ビス(置換フェニル)−3−ヒドロキシプロパン−1−オンおよび2−プロペン−1−オン化合物およびその塩 | 2013年10月 2日 | |
特許 5298398 | 液晶配向処理剤およびこれを用いた液晶表示素子 | 2013年 9月25日 | |
特許 5293937 | 感光性樹脂組成物 | 2013年 9月18日 | |
特許 5293921 | イソキサゾリン置換ベンズアミド化合物及び有害生物防除剤 | 2013年 9月18日 | |
特許 5293180 | リン酸エステル化合物を含有する被膜形成用塗布液及び反射防止膜 | 2013年 9月18日 | |
特許 5288108 | 電子線レジスト上層用帯電防止膜形成組成物 | 2013年 9月11日 | |
特許 5282885 | フッ化物コロイド粒子のオルガノゾルおよびその製造方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5281730 | インドール化合物の製造方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5282920 | パターン反転膜形成用組成物及び反転パターン形成方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5282859 | 哺乳瓶用洗浄剤組成物 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5282917 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたパターニング方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5282573 | 液晶配向剤、それを用いた液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2013年 9月 4日 |
122 件中 31-45 件を表示
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5315994 5316808 5310549 5304981 5298398 5293937 5293921 5293180 5288108 5282885 5281730 5282920 5282859 5282917 5282573
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11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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