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日産化学工業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第406位 95件
（
2010年：第403位 108件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第423位 78件
（2010年：第384位 76件）
（ランキング更新日：2025年6月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4697466 | スルホン酸エステルを含有するリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4697367 | ジヒドロピレン誘導体 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4697467 | シクロデキストリン化合物を含有するリソグラフィー用下層膜形成組成物 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4688681 | 好中球増多抑制剤 | 2011年 5月25日 | 共同出願 |
| 特許 4687910 | 硫黄原子を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 | 2011年 5月25日 | |
| 特許 4683216 | スルホオキシアルキルチオフェン化合物及びその製造法 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4683173 | 脂環式モノアクリレート化合物類の製造方法 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4678142 | 高透明性を有するポリ（アミド酸−イミド）共重合体の感光性樹脂組成物およびその硬化膜 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4666138 | 水性ジルコニアゾル含有研磨用組成物 | 2011年 4月 6日 | |
| 特許 4662073 | 良溶媒及び貧溶媒を含有するワニス | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4656292 | 金属のアルカノールアミン化合物の製造法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4654492 | コーティング組成物及び光学部材 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4654713 | 変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合ゾル及びその製造方法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4654544 | リソグラフィー用ギャップフィル材形成組成物 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4656308 | 反射防止剤固化物の除去用洗浄液および洗浄方法 | 2011年 3月23日 |
78 件中 46-60 件を表示
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4697466 4697367 4697467 4688681 4687910 4683216 4683173 4678142 4666138 4662073 4656292 4654492 4654713 4654544 4656308
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