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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第406位 95件 (2010年:第403位 108件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第423位 78件 (2010年:第384位 76件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4697466 | スルホン酸エステルを含有するリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4697367 | ジヒドロピレン誘導体 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4697467 | シクロデキストリン化合物を含有するリソグラフィー用下層膜形成組成物 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4688681 | 好中球増多抑制剤 | 2011年 5月25日 | 共同出願 |
特許 4687910 | 硫黄原子を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 | 2011年 5月25日 | |
特許 4683216 | スルホオキシアルキルチオフェン化合物及びその製造法 | 2011年 5月18日 | |
特許 4683173 | 脂環式モノアクリレート化合物類の製造方法 | 2011年 5月11日 | |
特許 4678142 | 高透明性を有するポリ(アミド酸−イミド)共重合体の感光性樹脂組成物およびその硬化膜 | 2011年 4月27日 | |
特許 4666138 | 水性ジルコニアゾル含有研磨用組成物 | 2011年 4月 6日 | |
特許 4662073 | 良溶媒及び貧溶媒を含有するワニス | 2011年 3月30日 | |
特許 4656292 | 金属のアルカノールアミン化合物の製造法 | 2011年 3月23日 | |
特許 4654492 | コーティング組成物及び光学部材 | 2011年 3月23日 | |
特許 4654713 | 変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合ゾル及びその製造方法 | 2011年 3月23日 | |
特許 4654544 | リソグラフィー用ギャップフィル材形成組成物 | 2011年 3月23日 | |
特許 4656308 | 反射防止剤固化物の除去用洗浄液および洗浄方法 | 2011年 3月23日 |
78 件中 46-60 件を表示
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4697466 4697367 4697467 4688681 4687910 4683216 4683173 4678142 4666138 4662073 4656292 4654492 4654713 4654544 4656308
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11月26日(火) -
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11月27日(水) -
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11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
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12月1日(日) -
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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