特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日産化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第291位　145件（2011年：第406位　95件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第365位　100件（2011年：第423位　78件）

（ランキング更新日：2025年5月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5003894	レジスト下層膜形成組成物及び半導体装置の製造方法	2012年 8月15日
特許 5003682	液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子	2012年 8月15日
特許 4993119	光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物	2012年 8月 8日
特許 4990427	光学活性β型トリス−（２，３−エポキシプロピル）−イソシアヌレート及び高融点型トリス−（２，３−エポキシプロピル）−イソシアヌレート	2012年 8月 1日
特許 4985402	複素環化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤	2012年 7月25日
特許 4985899	混練物製品の製造方法	2012年 7月25日
特許 4984098	レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法	2012年 7月25日
特許 4986023	植物病害防除剤組成物	2012年 7月25日
特許 4978005	アミノキノキサリン化合物及びポリアミノキノキサリン化合物、並びにその利用	2012年 7月18日
特許 4973848	ポリ乳酸樹脂組成物	2012年 7月11日
特許 4973192	アミド化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤	2012年 7月11日
特許 4968477	ハードマスクの除去用組成物及び除去方法	2012年 7月 4日
特許 4968450	金属酸化物ゾルの製造方法	2012年 7月 4日
特許 4968475	酸性ジルコニアゾル及びその製造方法	2012年 7月 4日
特許 4952933	低感度感光性レジスト下層膜形成組成物	2012年 6月13日

100 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5003894 5003682 4993119 4990427 4985402 4985899 4984098 4986023 4978005 4973848 4973192 4968477 4968450 4968475 4952933

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数