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日産化学工業株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第291位 145件 上昇2011年:第406位 95件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第365位 100件 上昇2011年:第423位 78件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5003894 レジスト下層膜形成組成物及び半導体装置の製造方法 2012年 8月15日
特許 5003682 液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子 2012年 8月15日
特許 4993119 光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物 2012年 8月 8日
特許 4990427 光学活性β型トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート及び高融点型トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート 2012年 8月 1日
特許 4985402 複素環化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤 2012年 7月25日
特許 4985899 混練物製品の製造方法 2012年 7月25日
特許 4984098 レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 2012年 7月25日
特許 4986023 植物病害防除剤組成物 2012年 7月25日
特許 4978005 アミノキノキサリン化合物及びポリアミノキノキサリン化合物、並びにその利用 2012年 7月18日
特許 4973848 ポリ乳酸樹脂組成物 2012年 7月11日
特許 4973192 アミド化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤 2012年 7月11日
特許 4968477 ハードマスクの除去用組成物及び除去方法 2012年 7月 4日
特許 4968450 金属酸化物ゾルの製造方法 2012年 7月 4日
特許 4968475 酸性ジルコニアゾル及びその製造方法 2012年 7月 4日
特許 4952933 低感度感光性レジスト下層膜形成組成物 2012年 6月13日

100 件中 46-60 件を表示

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5003894 5003682 4993119 4990427 4985402 4985899 4984098 4986023 4978005 4973848 4973192 4968477 4968450 4968475 4952933

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