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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第291位 145件
(2011年:第406位 95件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第365位 100件
(2011年:第423位 78件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5003894 | レジスト下層膜形成組成物及び半導体装置の製造方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 5003682 | 液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2012年 8月15日 | |
特許 4993119 | 光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物 | 2012年 8月 8日 | |
特許 4990427 | 光学活性β型トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート及び高融点型トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート | 2012年 8月 1日 | |
特許 4985402 | 複素環化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤 | 2012年 7月25日 | |
特許 4985899 | 混練物製品の製造方法 | 2012年 7月25日 | |
特許 4984098 | レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2012年 7月25日 | |
特許 4986023 | 植物病害防除剤組成物 | 2012年 7月25日 | |
特許 4978005 | アミノキノキサリン化合物及びポリアミノキノキサリン化合物、並びにその利用 | 2012年 7月18日 | |
特許 4973848 | ポリ乳酸樹脂組成物 | 2012年 7月11日 | |
特許 4973192 | アミド化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤 | 2012年 7月11日 | |
特許 4968477 | ハードマスクの除去用組成物及び除去方法 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4968450 | 金属酸化物ゾルの製造方法 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4968475 | 酸性ジルコニアゾル及びその製造方法 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4952933 | 低感度感光性レジスト下層膜形成組成物 | 2012年 6月13日 |
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5003894 5003682 4993119 4990427 4985402 4985899 4984098 4986023 4978005 4973848 4973192 4968477 4968450 4968475 4952933
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