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日産化学工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第270位 169件
（
2012年：第291位 145件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第326位 122件
（2012年：第365位 100件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5257548 | 液晶表示素子および液晶配向剤 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5258563 | αアミノ酸誘導体及びそれを有効成分として含む医薬 | 2013年 8月 7日 | 共同出願 |
| 特許 5254839 | ジチオカルバメート基を有する高分子化合物と金属イオンの複合体、及びこれらと機能性色素との機能性複合体 | 2013年 8月 7日 | 共同出願 |
| 特許 5252234 | ブロック化イソシアネート基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5250931 | フレキシブルポリイミドフィルム | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5251124 | リン酸エステルを有するチオフェン化合物及びその製造法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5246441 | ポジ型感光性樹脂組成物及びポリヒドロキシアミド樹脂 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5240207 | 液晶配向処理剤、及びそれを用いた液晶表示素子 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5229441 | 光学活性チタンサラレン化合物の製造方法 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5229236 | 液晶配向処理剤、及びそれを用いた液晶表示素子 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5219233 | 液晶配向剤 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5218736 | 研磨用組成物の製造方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5218785 | 硫黄原子を含有するレジスト下層膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5218762 | レジストパターンの形成方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5218062 | 液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2013年 6月26日 |
122 件中 61-75 件を表示
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5257548 5258563 5254839 5252234 5250931 5251124 5246441 5240207 5229441 5229236 5219233 5218736 5218785 5218762 5218062
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