特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日産化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第270位　169件（2012年：第291位　145件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第326位　122件（2012年：第365位　100件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5257548	液晶表示素子および液晶配向剤	2013年 8月 7日
特許 5258563	αアミノ酸誘導体及びそれを有効成分として含む医薬	2013年 8月 7日	共同出願
特許 5254839	ジチオカルバメート基を有する高分子化合物と金属イオンの複合体、及びこれらと機能性色素との機能性複合体	2013年 8月 7日	共同出願
特許 5252234	ブロック化イソシアネート基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物	2013年 7月31日
特許 5250931	フレキシブルポリイミドフィルム	2013年 7月31日
特許 5251124	リン酸エステルを有するチオフェン化合物及びその製造法	2013年 7月31日
特許 5246441	ポジ型感光性樹脂組成物及びポリヒドロキシアミド樹脂	2013年 7月24日
特許 5240207	液晶配向処理剤、及びそれを用いた液晶表示素子	2013年 7月17日
特許 5229441	光学活性チタンサラレン化合物の製造方法	2013年 7月 3日
特許 5229236	液晶配向処理剤、及びそれを用いた液晶表示素子	2013年 7月 3日
特許 5219233	液晶配向剤	2013年 6月26日
特許 5218736	研磨用組成物の製造方法	2013年 6月26日
特許 5218785	硫黄原子を含有するレジスト下層膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法	2013年 6月26日
特許 5218762	レジストパターンの形成方法	2013年 6月26日
特許 5218062	液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子	2013年 6月26日

122 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5257548 5258563 5254839 5252234 5250931 5251124 5246441 5240207 5229441 5229236 5219233 5218736 5218785 5218762 5218062

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数