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日産化学工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第291位 145件
（
2011年：第406位 95件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第365位 100件
（2011年：第423位 78件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4895049 | ナフタレン樹脂誘導体を含有するリソグラフィー用塗布型下層膜形成組成物 | 2012年 3月14日 | |
| 特許 4894514 | 高純度の３，５−ジヒドロキシ−６−ヘプテン酸誘導体の製造方法 | 2012年 3月14日 | |
| 特許 4893903 | ブロモイソフタル酸化合物の製造方法 | 2012年 3月 7日 | |
| 特許 4893103 | 被膜形成用塗布液及びその被膜並びに被膜形成方法 | 2012年 3月 7日 | |
| 特許 4887784 | 低屈折率及び大きい水接触角を有する被膜 | 2012年 2月29日 | |
| 特許 4888633 | 疎水性シリカ粉末の製造法 | 2012年 2月29日 | |
| 特許 4887783 | 低屈折率及び撥水性を有する被膜 | 2012年 2月29日 | |
| 特許 4883311 | エチレン誘導体および有害生物防除剤 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4883296 | イソキサゾリン置換ベンズアミド化合物及び有害生物防除剤 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4883274 | 放出制御された粒状物および該粒状物を含む製剤 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4883297 | アリールスルホン酸化合物及び電子受容性物質としての利用 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4883299 | 有機溶媒溶解性染料を含有するレジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4883286 | 傾斜構造を有するリソグラフィー用レジスト下層膜 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4877518 | 導電性酸化スズゾル及びその製造方法 | 2012年 2月15日 | |
| 特許 4868099 | 電界発光素子 | 2012年 2月 1日 |
100 件中 76-90 件を表示
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4895049 4894514 4893903 4893103 4887784 4888633 4887783 4883311 4883296 4883274 4883297 4883299 4883286 4877518 4868099
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