特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日産化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第270位　169件（2012年：第291位　145件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第326位　122件（2012年：第365位　100件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5186108	ピタバスタチンカルシウム塩の結晶	2013年 4月17日
特許 5182533	金属酸化物複合ゾル、コーティング組成物及び光学部材	2013年 4月17日
特許 5182532	変性金属酸化物複合ゾル、コーティング組成物及び光学部材	2013年 4月17日
特許 5177445	研磨用組成物	2013年 4月 3日
特許 5177150	液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子	2013年 4月 3日
特許 5170386	スルフォニル基を有するチオフェン化合物及びその製造法	2013年 3月27日
特許 5170487	ポリアミド酸エステルおよびポリイミドの製造方法	2013年 3月27日
特許 5170511	電子線硬化のケイ素含有レジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成組成物	2013年 3月27日
特許 5168469	酸化ジルコニウム−酸化スズ複合体ゾル、コーティング組成物及び光学部材	2013年 3月21日
特許 5168517	レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法	2013年 3月21日
特許 5163898	ポリアミック酸およびポリイミド	2013年 3月13日
特許 5163899	環構造を持つ高分子化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物	2013年 3月13日
特許 5158926	不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法	2013年 3月 6日	共同出願
特許 5157900	含窒素ヘテロ環化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤	2013年 3月 6日
特許 5158382	リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物及び半導体装置の製造方法	2013年 3月 6日

122 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5186108 5182533 5182532 5177445 5177150 5170386 5170487 5170511 5168469 5168517 5163898 5163899 5158926 5157900 5158382

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数