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日産化学工業株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第276位 150件 下降2013年:第270位 169件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第275位 146件 上昇2013年:第326位 122件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5477595 フルオレン骨格を有する光重合性ポリマーを用いる感光性組成物 2014年 4月23日
特許 5477593 レジスト下層膜形成組成物用添加剤及びそれを含むレジスト下層膜形成用組成物 2014年 4月23日
特許 5477567 ポリ乳酸樹脂組成物 2014年 4月23日
特許 5477182 脂環構造を有するポリアミド酸エステルの製造方法 2014年 4月23日
特許 5477527 末端官能基含有ポリイミドを含むポジ型感光性樹脂組成物 2014年 4月23日
特許 5472638 1−(置換フェニル)−1−置換シリルエーテル、アルコールまたはケトンの製造方法および中間体 2014年 4月16日
特許 5458575 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 2014年 4月 2日
特許 5459465 低重合収縮性ビニルシクロプロパン化合物及びその重合方法 2014年 4月 2日
特許 5459483 熱硬化膜形成用ポリエステル樹脂溶液 2014年 4月 2日
特許 5459229 インクジェット塗布用液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 2014年 4月 2日
特許 5459228 インクジェット塗布用液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 2014年 4月 2日
特許 5459520 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物 2014年 4月 2日
特許 5454780 半導体素子保護膜用塗布組成物 2014年 3月26日
特許 5445743 光インプリント用被膜形成用組成物 2014年 3月19日
特許 5447832 電子線リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物 2014年 3月19日

146 件中 91-105 件を表示

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5477595 5477593 5477567 5477182 5477527 5472638 5458575 5459465 5459483 5459229 5459228 5459520 5454780 5445743 5447832

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