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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第270位 169件 (2012年:第291位 145件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第326位 122件 (2012年:第365位 100件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5158381 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2013年 3月 6日 | |
特許 5158926 | 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法 | 2013年 3月 6日 | 共同出願 |
特許 5152518 | 置換イソキサゾリン化合物及び有害生物防除剤 | 2013年 2月27日 | |
特許 5152532 | 窒素含有シリル基を含むポリマーを含有するレジスト下層膜形成組成物 | 2013年 2月27日 | |
特許 5151478 | 液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2013年 2月27日 | |
特許 5146683 | 変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体ゾルの製造方法 | 2013年 2月20日 | |
特許 5149802 | 光学活性コハク酸イミド化合物の製造法 | 2013年 2月20日 | 共同出願 |
特許 5141866 | ビタミンB12−チタニアハイブリッド化合物および脱ハロゲン化触媒 | 2013年 2月13日 | |
特許 5141908 | シリカアルミナ複合ゾル及びその製造方法 | 2013年 2月13日 | |
特許 5141865 | 環状炭酸エステル化合物の製造方法 | 2013年 2月13日 | |
特許 5141882 | バリア性を示すレジスト下層膜の形成用組成物及びレジスト下層膜のバリア性評価方法 | 2013年 2月13日 | |
特許 5141858 | 電子線硬化のレジスト下層膜形成組成物 | 2013年 2月13日 | |
特許 5136795 | スルホン酸エステル化合物からなる電子受容性物質前駆体およびその利用 | 2013年 2月 6日 | |
特許 5136744 | 高平坦化膜形成用熱硬化性樹脂組成物 | 2013年 2月 6日 | |
特許 5126540 | 光学活性クロメンオキシド化合物の製造方法 | 2013年 1月23日 |
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5158381 5158926 5152518 5152532 5151478 5146683 5149802 5141866 5141908 5141865 5141882 5141858 5136795 5136744 5126540
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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