特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日産化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第270位　169件（2012年：第291位　145件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第326位　122件（2012年：第365位　100件）

（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5158381	レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法	2013年 3月 6日
特許 5158926	不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法	2013年 3月 6日	共同出願
特許 5152518	置換イソキサゾリン化合物及び有害生物防除剤	2013年 2月27日
特許 5152532	窒素含有シリル基を含むポリマーを含有するレジスト下層膜形成組成物	2013年 2月27日
特許 5151478	液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子	2013年 2月27日
特許 5146683	変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合体ゾルの製造方法	2013年 2月20日
特許 5149802	光学活性コハク酸イミド化合物の製造法	2013年 2月20日	共同出願
特許 5141866	ビタミンＢ１２−チタニアハイブリッド化合物および脱ハロゲン化触媒	2013年 2月13日
特許 5141908	シリカアルミナ複合ゾル及びその製造方法	2013年 2月13日
特許 5141865	環状炭酸エステル化合物の製造方法	2013年 2月13日
特許 5141882	バリア性を示すレジスト下層膜の形成用組成物及びレジスト下層膜のバリア性評価方法	2013年 2月13日
特許 5141858	電子線硬化のレジスト下層膜形成組成物	2013年 2月13日
特許 5136795	スルホン酸エステル化合物からなる電子受容性物質前駆体およびその利用	2013年 2月 6日
特許 5136744	高平坦化膜形成用熱硬化性樹脂組成物	2013年 2月 6日
特許 5126540	光学活性クロメンオキシド化合物の製造方法	2013年 1月23日

122 件中 106-120 件を表示

... 8

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5158381 5158926 5152518 5152532 5151478 5146683 5149802 5141866 5141908 5141865 5141882 5141858 5136795 5136744 5126540

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数