特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＪＸ日鉱日石金属株式会社

※ ログインすれば出願人(ＪＸ日鉱日石金属株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第176位　256件（2011年：第215位　199件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第224位　173件（2011年：第185位　194件）

（ランキング更新日：2024年11月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-211376	電池接続タブ用銅合金条	2012年11月 1日
特開 2012-207262	イリジウムの塩化物溶液からの金属イリジウムの製造方法	2012年10月25日
特開 2012-207264	曲げ加工性に優れたＣｕ−Ｃｏ−Ｓｉ系合金	2012年10月25日
特開 2012-207254	強度、導電率及び曲げ加工性に優れたチタン銅及びその製造方法	2012年10月25日
特開 2012-207260	電子材料用Ｃｕ−Ｃｏ−Ｓｉ系銅合金条及びその製造方法	2012年10月25日
特開 2012-201926	圧延銅箔及びその製造方法	2012年10月22日
特開 2012-201980	電気抵抗層付き金属箔及びその製造方法	2012年10月22日
特開 2012-200653	リチウム吸着剤及びその製造方法	2012年10月22日
特開 2012-201922	銅精鉱の処理方法	2012年10月22日
特開 2012-202671	溶解炉のガス処理装置、及び溶解炉のガス処理方法	2012年10月22日
特開 2012-201896	鉄・錫含有銅の処理装置および鉄・錫含有銅の処理方法	2012年10月22日
特開 2012-201920	銅精鉱の処理方法	2012年10月22日
特開 2012-201568	炭化ケイ素単結晶の製造装置及び炭化ケイ素単結晶基板	2012年10月22日
再表 2010-119785	半導体配線用バリア膜、焼結体スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法	2012年10月22日
特開 2012-200716	水素透過性モジュール及びこれを利用した水素分離方法	2012年10月22日

255 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-211376 2012-207262 2012-207264 2012-207254 2012-207260 2012-201926 2012-201980 2012-200653 2012-201922 2012-202671 2012-201896 2012-201920 2012-201568 2010-119785 2012-200716

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＸ日鉱日石金属株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数