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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第158位 313件 (2012年:第176位 256件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第176位 235件 (2012年:第224位 173件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5261595 | 圧延銅箔及びその製造方法、並びに、積層板 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265710 | Bi−Ge−O系焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光記録媒体 | 2013年 8月14日 | |
特許 5261500 | 導電性と曲げ性を改善したCu−Ni−Si−Mg系合金 | 2013年 8月14日 | |
特許 5261161 | Ni−Si−Co系銅合金及びその製造方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5254407 | 正極活物質の浸出方法 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5254491 | 印刷回路基板用銅箔及び印刷回路基板用銅張積層板 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5259741 | Bi−Ge−O系焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光記録媒体 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5254290 | インジウムターゲット及びその製造方法 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5248684 | 電子回路及びその形成方法並びに電子回路形成用銅張積層板 | 2013年 7月31日 | |
特許 5247877 | リチウムイオン電池用正極材から集電体及び正極活物質を分離回収する方法 | 2013年 7月24日 | |
特許 5247929 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板及びプリント回路板 | 2013年 7月24日 | |
特許 5246777 | リチウム含有遷移金属酸化物ターゲット及びその製造方法並びにリチウムイオン薄膜二次電池 | 2013年 7月24日 | |
特許 5247021 | 曲げ部のしわを低減させたCu−Ni−Si系合金板・条及びその製造方法 | 2013年 7月24日 | |
特許 5247010 | 高強度で曲げ加工性に優れたCu−Zn系合金 | 2013年 7月24日 | |
特許 5243541 | タングステン焼結体スパッタリングターゲット | 2013年 7月24日 |
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5261595 5265710 5261500 5261161 5254407 5254491 5259741 5254290 5248684 5247877 5247929 5246777 5247021 5247010 5243541
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