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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第245位 178件 (2018年:第240位 177件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第177位 157件 (2018年:第151位 201件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6624585 | スパッタリングターゲット−バッキングプレート接合体 | 2019年12月25日 | |
特許 6626583 | 半導体ウエハ及び半導体ウエハの研磨方法 | 2019年12月25日 | |
特許 6622103 | キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2019年12月18日 | |
特許 6622998 | リチウムイオン電池スクラップからの鉄及びアルミニウムの除去方法及び、有価金属の回収方法 | 2019年12月18日 | |
特許 6617313 | フレキシブルプリント基板用銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器 | 2019年12月11日 | |
特許 6618410 | チタン銅箔、伸銅品、電子機器部品およびオートフォーカスカメラモジュール | 2019年12月11日 | |
特許 6618945 | 電子材料用銅合金 | 2019年12月11日 | |
特許 6619389 | Cu−Ni−Si系銅合金 | 2019年12月11日 | |
特許 6619832 | リチウムイオン電池用酸化物系正極活物質、リチウムイオン電池用酸化物系正極活物質の前駆体の製造方法、リチウムイオン電池用酸化物系正極活物質の製造方法、リチウムイオン電池用正極及びリチウムイオン電池 | 2019年12月11日 | |
特許 6619942 | 半導体ウエハへの電気銅めっきに使用する銅アノード又は含燐銅アノード及び銅アノード又は含燐銅アノードの製造方法 | 2019年12月11日 | |
特許 6620266 | タンタル塩化物および、タンタル塩化物の製造方法 | 2019年12月11日 | |
特許 6611751 | リチウムイオン電池集電体用圧延銅箔及びリチウムイオン電池 | 2019年11月27日 | |
特許 6611770 | 低温焼結性表面処理銅微粒子の製造方法 | 2019年11月27日 | |
特許 6612168 | 銅箔、銅張積層板、並びにフレキシブルプリント基板及び電子機器 | 2019年11月27日 | |
特許 6609589 | 層状組織を有する高強度チタン銅条および箔 | 2019年11月20日 |
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6624585 6626583 6622103 6622998 6617313 6618410 6618945 6619389 6619832 6619942 6620266 6611751 6611770 6612168 6609589
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