ホーム > 特許ランキング > ＪＸ日鉱日石金属株式会社 > 2011年 > 特許一覧
ＪＸ日鉱日石金属株式会社
※ ログインすれば出願人(ＪＸ日鉱日石金属株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第215位 199件
（
2010年：第1800位 14件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第185位 194件
（2010年：第841位 28件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4847179 | 貴金属めっきを施したチタン又はチタン合金材料 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4846872 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4842426 | 高純度銀の製造方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4840808 | 高純度ニッケル、高純度ニッケルターゲット及び高純度ニッケル薄膜 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4838587 | 気相成長方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4837805 | 磁性材スパッタリングターゲット | 2011年12月14日 | |
| 特許 4836312 | 銀めっき前処理剤および銀めっき方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4837785 | インジウムターゲット及びその製造方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4837697 | 電子材料用Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｃｏ系銅合金及びその製造方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4836136 | 金属ガラス膜作製用スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2011年12月14日 | 共同出願 |
| 特許 4834781 | 電子材料用Ｃｕ−Ｃｏ−Ｓｉ系合金 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4837801 | Ｃｏ若しくはＣｏ合金相に酸化物相を分散させたスパッタリングターゲット | 2011年12月14日 | |
| 特許 4831594 | 高純度バナジウムスパッタリングターゲットの製造方法 | 2011年12月 7日 | |
| 特許 4830035 | 電子材料用Ｃｕ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金及びその製造方法 | 2011年12月 7日 | |
| 特許 4831408 | 板状電気銅の製造方法 | 2011年12月 7日 |
194 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4847179 4846872 4842426 4840808 4838587 4837805 4836312 4837785 4837697 4836136 4834781 4837801 4831594 4830035 4831408
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＸ日鉱日石金属株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー｜知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時～〉
4月11日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜東1-12 千歳第一ビル４階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都府中市寿町一丁目１－１１ 第２福井ビル５階 No.2 Fukui Bldg. 5F 1-11, Kotobukicho 1chome, Fuchu-shi Tokyo JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
