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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第78位 553件
(2013年:第82位 562件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第63位 557件
(2013年:第95位 431件)
(ランキング更新日:2025年6月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5590504 | トリプレート線路層間接続器及び平面アレーアンテナ | 2014年 9月17日 | |
特許 5590117 | ノルボルナン骨格を有するポリアミドの製造方法及びそれにより得られるノルボルナン骨格を有するポリアミド | 2014年 9月17日 | |
特許 5590144 | スラリー、研磨液セット、研磨液、及び、基板の研磨方法 | 2014年 9月17日 | |
特許 5590378 | 粉末成形装置およびそれを用いた粉末成形方法 | 2014年 9月17日 | |
特許 5589470 | ビスマレイミド誘導体とその製造方法、並びに熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 | 2014年 9月17日 | |
特許 5592054 | 新規硬化性樹脂とその製造方法、及びエポキシ樹脂組成物、電子部品装置 | 2014年 9月17日 | |
特許 5589406 | 半導体ウェハ加工用接着フィルム及びその製造方法 | 2014年 9月17日 | |
特許 5585578 | 光導波路形成用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム及び光導波路 | 2014年 9月10日 | |
特許 5585220 | CMP研磨液及びこのCMP研磨液を用いた研磨方法 | 2014年 9月10日 | |
特許 5585192 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、レジストパターン及びレジストパターン積層基板 | 2014年 9月10日 | |
特許 5585542 | 接着フィルムおよびその用途ならびに半導体装置の製造方法 | 2014年 9月10日 | |
特許 5585818 | プリント配線板およびそれを使用した半導体パッケージ | 2014年 9月10日 | |
特許 5586030 | トリシクロデカンモノメタノールモノカルボン酸誘導体の製造方法 | 2014年 9月10日 | 共同出願 |
特許 5585988 | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | 2014年 9月10日 | 共同出願 |
特許 5585636 | 半導体装置の製造方法 | 2014年 9月10日 |
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5590504 5590117 5590144 5590378 5589470 5592054 5589406 5585578 5585220 5585192 5585542 5585818 5586030 5585988 5585636
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