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旭化成エレクトロニクス株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第273位 150件
（
2010年：第333位 134件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第448位 74件
（
2010年：第365位 81件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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旭化成エレクトロニクス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4648423 | 回転角度計測装置及び回転角度計測方法 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647840 | Ｇｍ−Ｃフィルタ | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647823 | Ｇｍ−Ｃフィルタ | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4644126 | 方位角計測装置及び方位角計測方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4638670 | 方位角計測方法および方位角計測装置 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4638613 | Ｙ／Ｃ分離回路 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4634621 | フィルタ中心周波数調整装置および方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4625283 | 不要輻射低減回路及びその半導体デバイス | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4620522 | 半導体回路 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620241 | 半導体装置の設計支援装置及びその支援方法 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620289 | 高速電流スイッチ回路 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4612281 | 位置検出装置 | 2011年 1月12日 | |
| 特許 4611961 | 塗布方法 | 2011年 1月12日 | |
| 特許 4608178 | 電子デバイスおよび電子デバイス形成方法 | 2011年 1月 5日 |
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4648423 4647840 4647823 4644126 4638670 4638613 4634621 4625283 4620522 4620241 4620289 4612281 4611961 4608178
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
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