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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第54位 677件
(2010年:第55位 742件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第39位 754件
(2010年:第27位 811件)
(ランキング更新日:2025年7月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-227260 | 再生フォトマスク用基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクの製造方法、再生フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-224185 | 電子内視鏡用画像処理装置 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-227223 | 多階調マスクの製造方法およびエッチング装置 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-225383 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-218033 | 斜視型内視鏡の先端部構造 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-217829 | スペーサ固定用糸及びスペーサ固定用糸付きスペーサ | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-217835 | 内視鏡の形状検出装置 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-223318 | 撮像素子電力供給システムおよび撮像装置 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-221465 | 反射防止膜、及びこれを有する光学部材 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-220999 | 基板の内径測定装置及び内径測定方法 | 2011年11月 4日 | 共同出願 |
特開 2011-217768 | 固定部材および固定部材セット | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-220568 | 流路変更装置 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-217836 | 電子内視鏡装置 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-222834 | ベーク処理装置、レジストパターン形成方法、フォトマスクの製造方法、及び、ナノインプリント用モールドの製造方法 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-217854 | 電子内視鏡用プロセッサ | 2011年11月 4日 |
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2011-227260 2011-224185 2011-227223 2011-225383 2011-218033 2011-217829 2011-217835 2011-223318 2011-221465 2011-220999 2011-217768 2011-220568 2011-217836 2011-222834 2011-217854
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