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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第100位 441件
(2013年:第99位 482件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第108位 377件
(2013年:第93位 434件)
(ランキング更新日:2025年3月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-199704 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-199293 | 眼鏡レンズの評価方法および製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-199699 | 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-199435 | ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-199328 | 染色レンズおよびその製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-198648 | 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-197449 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板 | 2014年10月16日 | 共同出願 |
特開 2014-197190 | マスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法 | 2014年10月16日 | |
特開 2014-197215 | フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法、並びに半導体デバイスの製造方法 | 2014年10月16日 | |
特開 2014-197149 | マスクブランクの製造方法 | 2014年10月16日 | |
特開 2014-194833 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨液 | 2014年10月 9日 | |
特開 2014-194462 | レンズデータ処理方法、レンズ加工方法、レンズデータ処理プログラムおよびデータ処理装置 | 2014年10月 9日 | |
特開 2014-194531 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2014年10月 9日 | 共同出願 |
特開 2014-193501 | レンズ加工制御装置、レンズ加工制御プログラム、レンズ形状判定方法および眼鏡レンズの製造方法 | 2014年10月 9日 | |
特開 2014-193497 | 形状分割方法、形状分割プログラムおよびデータ処理装置 | 2014年10月 9日 |
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2014-199704 2014-199293 2014-199699 2014-199435 2014-199328 2014-198648 2014-197449 2014-197190 2014-197215 2014-197149 2014-194833 2014-194462 2014-194531 2014-193501 2014-193497
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3月26日(水) - 東京 港区
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