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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第80位 531件 (2011年:第54位 677件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第78位 484件 (2011年:第39位 754件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-220873 | ズームレンズ系 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-218265 | 樹脂成形品の内部流路成形部カット装置 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-213889 | インプリント装置及び離型方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215677 | 転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-213428 | 内視鏡操作部に設けられる操作装置 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-213821 | 眼鏡レンズの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-216257 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215642 | 眼鏡レンズ | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215824 | レジストパターン形成方法及びモールド製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215638 | 眼鏡レンズの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-214361 | 電子機器用カバーガラスブランクの製造方法および電子機器用カバーガラスの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-216617 | レジストパターン形成方法およびモールド製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-213822 | 眼鏡レンズの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-216276 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215829 | マスクブランク製造用スパッタリング装置及び表示装置用マスクブランクの製造方法並びに表示装置用マスクの製造方法 | 2012年11月 8日 |
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2012-220873 2012-218265 2012-213889 2012-215677 2012-213428 2012-213821 2012-216257 2012-215642 2012-215824 2012-215638 2012-214361 2012-216617 2012-213822 2012-216276 2012-215829
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