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DOWAエレクトロニクス株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第772位 40件 下降2011年:第584位 60件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第392位 92件 上昇2011年:第398位 83件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-62531 フレーク状銀粉とその製造方法、樹脂硬化型導電性ペーストおよび導電膜の形成方法 2012年 3月29日
特開 2012-53195 再生キャリアの製造方法、再生キャリア、再生キャリアのキャリア芯材、電子写真現像剤、および電子写真現像剤の製造方法 2012年 3月15日 共同出願
特開 2012-49520 半導体素子と半導体素子の製造方法 2012年 3月 8日
特開 2012-48256 電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア、および電子写真現像剤 2012年 3月 8日 共同出願
特開 2012-25640 フェライト粒子及びそれを用いた電子写真現像用キャリア、電子写真用現像剤並びにフェライト粒子の製造方法 2012年 2月 9日 共同出願
特開 2012-23314 III族窒化物エピタキシャル基板 2012年 2月 2日
特開 2012-18783 導電性ペースト 2012年 1月26日
特開 2012-9564 ウェハの薄厚化加工方法および半導体デバイスの製造方法 2012年 1月12日
特開 2012-6829 SiドープGaAs単結晶インゴットおよびその製造方法、並びに、当該SiドープGaAs単結晶インゴットから製造されたSiドープGaAs単結晶ウェハ 2012年 1月12日
特開 2012-2868 電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア、電子写真現像剤、および電子写真現像剤用キャリア芯材の製造方法 2012年 1月 5日 共同出願

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2012-62531 2012-53195 2012-49520 2012-48256 2012-25640 2012-23314 2012-18783 2012-9564 2012-6829 2012-2868

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