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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1216位 24件 (2012年:第2159位 10件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2264位 9件 (2012年:第3300位 5件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-516767 | 多層結晶構造体の製造方法 | 2013年 5月13日 | |
特表 2013-516376 | 三フッ化アルミニウムを生成する方法 | 2013年 5月13日 | |
特表 2013-516377 | 四フッ化ケイ素の製造方法 | 2013年 5月13日 | |
特表 2013-515673 | 分配器の周縁開口部に導かれた四塩化ケイ素を用いてリアクター壁上のケイ素付着物を低減する方法 | 2013年 5月 9日 | |
特表 2013-516085 | シリコンオンインシュレータウェハを処理する方法 | 2013年 5月 9日 | |
特表 2013-516063 | ウエハプロセシング中に半導体ウエハに与えられる汚染物混入の量をモニタリングするための方法 | 2013年 5月 9日 | |
特表 2013-516062 | 水の分析方法および水中で洗浄される基板の分析方法 | 2013年 5月 9日 | |
特表 2013-516061 | 半導体ウエハ輸送システム | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-58784 | シリコンウエハ中の金属汚染低減のための方法 | 2013年 3月28日 |
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2013-516767 2013-516376 2013-516377 2013-515673 2013-516085 2013-516063 2013-516062 2013-516061 2013-58784
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月25日(水) - 東京 千代田区
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9月26日(木) -
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