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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第156位 297件
(2014年:第152位 300件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第184位 166件
(2014年:第168位 260件)
(ランキング更新日:2025年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2013-111609 | 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-111689 | 高純度銅クロム合金スパッタリングターゲット | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-111706 | 強磁性材スパッタリングターゲット | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-114666 | スパッタリングターゲット組立体 | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-115276 | 圧入型端子及びそれを用いた電子部品 | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-115289 | 多結晶シリコンスパッタリングターゲット | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-118416 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板、プリント回路板及び銅張積層板 | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-118891 | 表面処理された金属粉、及びその製造方法 | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-118892 | 表面処理された金属粉、及びその製造方法 | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-118893 | 表面処理された金属粉、及びその製造方法 | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-122069 | 高純度チタンインゴット、その製造方法及びチタンスパッタリングターゲット | 2015年 5月11日 | |
特開 2015-89963 | ロジウム及びルテニウムの濃縮方法 | 2015年 5月11日 | |
再表 2013-99832 | スパッタリング用焼結体酸化マグネシウムターゲット及びその製造方法 | 2015年 5月 7日 | |
特開 2015-85242 | フッ素を含む燃焼炉の排ガスの処理方法 | 2015年 5月 7日 | |
特開 2015-86416 | 導電性、耐応力緩和性および成形性に優れる銅合金板 | 2015年 5月 7日 |
306 件中 151-165 件を表示
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2013-111609 2013-111689 2013-111706 2013-114666 2013-115276 2013-115289 2013-118416 2013-118891 2013-118892 2013-118893 2013-122069 2015-89963 2013-99832 2015-85242 2015-86416
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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