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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第175位 303件
(2016年:第175位 251件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第181位 180件
(2016年:第141位 251件)
(ランキング更新日:2025年2月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-84676 | リチウムイオン電池用正極活物質、リチウムイオン電池用正極及びリチウムイオン電池 | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-85077 | 回路基板用金属板成形品および、パワーモジュールの製造方法 | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-85102 | 回路基板用金属板、回路基板用金属板成形品、回路基板およびパワーモジュールならびに、パワーモジュールの製造方法 | 2017年 5月18日 | |
再表 2016-13334 | 磁性体薄膜形成用スパッタリングターゲット | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-17432 | 防食性の金属とMo又はMo合金を拡散接合したバッキングプレート、及び該バッキングプレートを備えたスパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-35415 | スパッタリングターゲット | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-47572 | チタン製スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-47578 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-52348 | コバルトスパッタリングターゲット | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-52380 | タングステンスパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-56352 | ニオブ酸化物焼結体及び該焼結体からなるスパッタリングターゲット並びにニオブ酸化物焼結体の製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-56612 | Al−Te−Cu−Zr系合金からなるスパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-67949 | 希土類薄膜磁石及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-72441 | ITOスパッタリングターゲット及びその製造方法並びにITO透明導電膜及びITO透明導電膜の製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-136855 | 酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜 | 2017年 4月27日 |
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2017-84676 2017-85077 2017-85102 2016-13334 2016-17432 2016-35415 2016-47572 2016-47578 2016-52348 2016-52380 2016-56352 2016-56612 2016-67949 2016-72441 2016-136855
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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