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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第175位 303件 (2016年:第175位 251件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第181位 180件 (2016年:第141位 251件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-133105 | キャリア付銅箔、プリント配線板、プリント回路板、銅張積層板及びプリント配線板の製造方法 | 2017年 8月 3日 | |
特開 2017-134968 | MoSi2製の発熱体及び同発熱体の製造方法 | 2017年 8月 3日 | |
特開 2017-128490 | 金属ポリ酸の製造方法 | 2017年 7月27日 | |
特開 2017-128791 | 無電解Niめっき皮膜を有する構造物、その製造方法および半導体ウェハ | 2017年 7月27日 | |
特開 2017-128804 | 銅箔、銅張積層板、プリント配線板の製造方法、電子機器の製造方法、伝送路の製造方法及びアンテナの製造方法 | 2017年 7月27日 | |
特開 2017-130395 | リチウムイオン電池用正極活物質前駆体、リチウムイオン電池用正極活物質、リチウムイオン電池用正極活物質の製造方法、リチウムイオン電池用正極及びリチウムイオン電池 | 2017年 7月27日 | |
特開 2017-130658 | 銅箔、銅張積層板、プリント配線板の製造方法、電子機器の製造方法、伝送路の製造方法及びアンテナの製造方法 | 2017年 7月27日 | |
特開 2017-124533 | キャリア付銅箔、積層体、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2017年 7月20日 | |
再表 2016-152349 | 酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット | 2017年 7月13日 | |
特開 2017-122274 | 表面処理銅箔 | 2017年 7月13日 | |
再表 2016-190160 | タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 7月 6日 | |
特開 2017-119904 | コバルト製又はコバルト基合金製スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 7月 6日 | |
特開 2017-120132 | スラグタップ方法及びスラグホール構造並びに溶融炉の操業方法 | 2017年 7月 6日 | |
再表 2016-140113 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 6月29日 | |
特開 2017-115222 | 圧延銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器 | 2017年 6月29日 |
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2017-133105 2017-134968 2017-128490 2017-128791 2017-128804 2017-130395 2017-130658 2017-124533 2016-152349 2017-122274 2016-190160 2017-119904 2017-120132 2016-140113 2017-115222
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