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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第682位 50件
(2016年:第1509位 16件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第842位 26件
(2016年:第506位 54件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2014-141601 | 成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-155444 | 太陽電池の製造方法、および太陽電池 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-167615 | スパッタリング装置 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-170935 | イオンビーム処理装置、電極アセンブリ及び電極アセンブリの洗浄方法 | 2017年 2月16日 | |
特開 2017-36494 | スパッタリング装置 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-136158 | イオンビーム処理方法、およびイオンビーム処理装置 | 2017年 2月 9日 | |
再表 2014-132301 | 真空処理装置 | 2017年 2月 2日 | |
再表 2014-132308 | スパッタリング装置 | 2017年 2月 2日 | |
再表 2014-122700 | 成膜装置 | 2017年 1月26日 | |
再表 2014-97510 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2017年 1月12日 | |
再表 2014-97520 | 酸化処理装置、酸化方法、および電子デバイスの製造方法 | 2017年 1月12日 | |
再表 2014-97540 | スパッタリング方法および機能素子の製造方法 | 2017年 1月12日 | |
再表 2014-97576 | グリッドアセンブリおよびイオンビームエッチング装置 | 2017年 1月12日 | |
再表 2014-103100 | 質量分析装置 | 2017年 1月12日 | |
再表 2014-103168 | 基板処理装置 | 2017年 1月12日 |
50 件中 31-45 件を表示
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2014-141601 2014-155444 2014-167615 2014-170935 2017-36494 2014-136158 2014-132301 2014-132308 2014-122700 2014-97510 2014-97520 2014-97540 2014-97576 2014-103100 2014-103168
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3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
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