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キヤノンアネルバ株式会社

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第682位　50件（2016年：第1509位　16件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第842位　26件（2016年：第506位　54件）

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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2017-68611	磁気抵抗素子の製造方法	2017年10月19日
再表 2017-56138	イオンビームエッチング方法およびイオンビームエッチング装置	2017年10月 5日
特開 2017-135124	電極アセンブリ	2017年 8月 3日
特開 2017-135414	イオンビームエッチング装置及び制御装置	2017年 8月 3日
特開 2017-122266	成膜装置	2017年 7月13日
再表 2016-56275	成膜装置	2017年 7月 6日
再表 2016-208094	真空アーク成膜装置および成膜方法	2017年 6月29日
再表 2016-189772	磁気抵抗効果素子	2017年 6月22日
再表 2016-17078	成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置	2017年 5月25日
再表 2016-9577	窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法	2017年 4月27日
再表 2016-21496	スパッタ装置および成膜装置	2017年 4月27日
再表 2016-27388	磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム	2017年 4月27日
再表 2016-125200	垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法	2017年 4月27日
再表 2016-147232	グリッド及びその製造方法並びにイオンビーム処理装置	2017年 4月27日
再表 2015-177948	金属膜および金属膜の成膜方法	2017年 4月20日

50 件中 1-15 件を表示

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2017-68611 2017-56138 2017-135124 2017-135414 2017-122266 2016-56275 2016-208094 2016-189772 2016-17078 2016-9577 2016-21496 2016-27388 2016-125200 2016-147232 2015-177948

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