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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件
（
2010年：第335位 133件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件
（
2010年：第188位 176件）
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-257377 | 冷陰極電離真空計、該冷陰極電離真空計を備えた真空処理装置、該冷陰極電離真空計に用いる放電開始補助電極、該冷陰極電離真空計を用いた圧力測定方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-253832 | レジストトリミング方法及びトリミング装置 | 2011年12月15日 | |
| 再表 2009-157186 | 磁場発生装置及びプラズマ処理装置 | 2011年12月 8日 | |
| 再表 2009-157341 | スパッタリング装置及びその制御用プログラムを記録した記録媒体 | 2011年12月 8日 | |
| 再表 2009-157064 | トンネル磁気抵抗素子の製造方法および製造装置 | 2011年12月 1日 | |
| 特開 2011-243601 | 基板搬送処理装置及び基板搬送処理方法 | 2011年12月 1日 | |
| 再表 2009-157087 | 電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 | 2011年12月 1日 | |
| 特開 2011-243257 | 基板回転装置及び真空処理装置並びに成膜方法 | 2011年12月 1日 | |
| 特開 2011-243780 | 基板支持装置及び真空処理装置 | 2011年12月 1日 | |
| 再表 2009-157088 | 電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 | 2011年12月 1日 | |
| 再表 2009-153870 | 相変化メモリ素子、相変化メモリセル、真空処理装置及び相変化メモリ素子の製造方法 | 2011年11月24日 | |
| 再表 2009-154009 | 磁気抵抗素子の製造方法、スパッタ成膜チャンバー、スパッタ成膜チャンバーを有する磁気抵抗素子の製造装置、プログラム、記憶媒体 | 2011年11月24日 | |
| 特開 2011-238900 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2011年11月24日 | |
| 再表 2009-153856 | 防着カバー付きキャリアおよび防着カバー着脱装置 | 2011年11月24日 | |
| 再表 2009-154002 | 真空処理装置、真空処理方法及び電子デバイスの製造方法 | 2011年11月24日 |
156 件中 1-15 件を表示
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2011-257377 2011-253832 2009-157186 2009-157341 2009-157064 2011-243601 2009-157087 2011-243257 2011-243780 2009-157088 2009-153870 2009-154009 2011-238900 2009-153856 2009-154002
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