特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノンアネルバ株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第347位　119件（2011年：第260位　156件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第926位　32件（2011年：第403位　82件）

（ランキング更新日：2026年5月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
再表 2011-7753	基板処理装置	2012年12月27日
特開 2012-255207	真空処理装置	2012年12月27日
再表 2011-7546	イオンビーム発生装置、基板処理装置及び電子デバイスの製造方法	2012年12月20日
再表 2010-150590	真空加熱冷却装置および磁気抵抗素子の製造方法	2012年12月10日
特開 2012-234930	基板トレイ及び該トレイを用いた基板処理装置	2012年11月29日
再表 2010-143371	真空処理装置及び光学部品の製造方法	2012年11月22日
再表 2010-143370	磁気センサ積層体、その成膜方法、成膜制御プログラムおよび記録媒体	2012年11月22日
特開 2012-221596	処理装置	2012年11月12日
特開 2012-219361	スピネルフェライト薄膜の製造方法	2012年11月12日
再表 2010-126089	識別情報設定装置、および識別情報設定方法	2012年11月 1日
再表 2010-125669	質量分析用イオン検出装置、イオン検出方法、およびイオン検出装置の製造方法	2012年10月25日
再表 2010-125810	半導体装置およびその製造方法	2012年10月25日
再表 2010-119569	周波数変換装置、及び周波数変換方法	2012年10月22日
特開 2012-197463	薄膜の成膜方法	2012年10月18日
再表 2010-116560	半導体装置の製造方法及びスパッタ装置	2012年10月18日

119 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-7753 2012-255207 2011-7546 2010-150590 2012-234930 2010-143371 2010-143370 2012-221596 2012-219361 2010-126089 2010-125669 2010-125810 2010-119569 2012-197463 2010-116560

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数