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信越化学工業株式会社

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　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第59位　406件（2014年：第66位　549件）

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信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5699943	パターン形成方法及びレジスト材料	2015年 4月15日
特許 5699990	ピペラジニル基を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法及びピペラジン化合物	2015年 4月15日
特許 5701228	多孔質ガラス母材の遮熱部材および焼結方法	2015年 4月15日
特許 5701803	含フッ素硬化性組成物及びその硬化物	2015年 4月15日
特許 5702699	リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法	2015年 4月15日
特許 5695594	磁気光学素子用焼結体及び磁気光学素子	2015年 4月 8日
特許 5696063	多結晶シリコン棒搬出冶具および多結晶シリコン棒の刈取方法	2015年 4月 8日
特許 5697160	オルガノポリシロキサン組成物及びその硬化物	2015年 4月 8日
特許 5697165	光ファイバ用多孔質ガラス堆積体の製造方法	2015年 4月 8日
特許 5698102	非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法、非水電解質二次電池用負極活物質、リチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ	2015年 4月 8日
特許 5698113	シリコーン変性ワックス、それを含有する組成物、化粧料、及びシリコーン変性ワックスの製造方法	2015年 4月 8日
特許 5698171	単結晶製造方法及び単結晶製造装置	2015年 4月 8日
特許 5698184	ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法	2015年 4月 8日
特許 5698185	ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法	2015年 4月 8日
特許 5699060	多結晶シリコンの製造方法	2015年 4月 8日

423 件中 316-330 件を表示

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5699943 5699990 5701228 5701803 5702699 5695594 5696063 5697160 5697165 5698102 5698113 5698171 5698184 5698185 5699060

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