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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第79位 394件 (2022年:第100位 332件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第71位 433件 (2022年:第71位 431件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-170334 | パーフルオロポリエーテル-オルガノポリシロキサンブロックコポリマー | 2023年12月 1日 | |
特開 2023-169812 | 新規スルホニウム塩、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年11月30日 | |
特開 2023-169814 | 新規スルホニウム塩型重合性単量体、高分子光酸発生剤、ベース樹脂、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年11月30日 | |
特開 2023-169231 | 半導体積層体 | 2023年11月29日 | |
特開 2023-167358 | 熱伝導性シリコーン接着テープ用組成物及び熱伝導性シリコーン接着テープ | 2023年11月24日 | |
特開 2023-167368 | レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年11月24日 | |
特開 2023-167978 | ミラブル型シリコーンゴム組成物及びその硬化物 | 2023年11月24日 | |
特開 2023-167983 | 反射型フォトマスクブランク、及び反射型フォトマスクの製造方法 | 2023年11月24日 | |
特開 2023-166651 | マスクブランク、レジストパターン形成方法及び化学増幅ポジ型レジスト組成物 | 2023年11月22日 | |
特開 2023-166652 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2023年11月22日 | |
特開 2023-166976 | 金属酸化膜形成用組成物、パターン形成方法、及び金属酸化膜形成方法 | 2023年11月22日 | |
特開 2023-166222 | 光アイソレータ | 2023年11月21日 | |
特開 2023-165095 | ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 | 2023年11月15日 | |
特開 2023-165225 | メルカプト基およびアルコキシシリル基含有オルガノポリシロキサン、ならびにそれを含む組成物 | 2023年11月15日 | |
特開 2023-165354 | シリコーン粒子の製造方法 | 2023年11月15日 |
411 件中 46-60 件を表示
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2023-170334 2023-169812 2023-169814 2023-169231 2023-167358 2023-167368 2023-167978 2023-167983 2023-166651 2023-166652 2023-166976 2023-166222 2023-165095 2023-165225 2023-165354
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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