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信越化学工業株式会社

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 ■ 2024年 出願公開件数ランキング    第79位 375件 (変わらず2023年:第79位 394件)

 ■ 2024年 特許取得件数ランキング    第79位 379件 (下降2023年:第71位 433件)

(ランキング更新日:2026年10月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-155758 レジスト材料、レジスト組成物、パターン形成方法、及びモノマー 2024年10月31日
特開 2024-154865 希土類焼結磁石及びその製造方法 2024年10月31日
特開 2024-153747 低誘電性樹脂組成物およびその硬化物 2024年10月29日
特開 2024-151464 分離膜およびその製造方法 2024年10月25日
特開 2024-151446 オニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法 2024年10月25日
特開 2024-151709 ミラブル型シリコーンゴム組成物及びその硬化物 2024年10月25日
特開 2024-151731 分子レジスト組成物及びパターン形成方法 2024年10月25日
特開 2024-151871 硬化性パーフルオロポリエーテルゲル組成物、パーフルオロポリエーテルゲル硬化物、および該硬化物で封止された電子部品 2024年10月25日
特開 2024-152123 フェノール部位を有する第四級ホスホニウムシランおよびその製造方法、並びにこれを用いた環状カーボネートの製造方法 2024年10月25日
特開 2024-151828 熱伝導性シリコーン樹脂シートの製造方法 2024年10月25日
特開 2024-150994 EUVマスクブランクに形成された基準マークの評価方法 2024年10月24日
特開 2024-150149 ガラスクロス及びその製造方法 2024年10月23日
特開 2024-150107 有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び化合物 2024年10月23日
特開 2024-150755 ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法 2024年10月23日
特開 2024-150218 ガラスクロス 2024年10月23日

384 件中 76-90 件を表示

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2024-155758 2024-154865 2024-153747 2024-151464 2024-151446 2024-151709 2024-151731 2024-151871 2024-152123 2024-151828 2024-150994 2024-150149 2024-150107 2024-150755 2024-150218

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