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信越化学工業株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第66位 336件
（
2025年：第61位 437件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第56位 324件
（
2025年：第64位 394件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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信越化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-127275 | スルホニウム塩、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2026年 8月 6日 | |
| 特開 2026-126663 | スルホニウム塩型モノマー、ポリマー、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126530 | 付加硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126674 | スルホニウム塩型モノマー、ポリマー、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126675 | スルホニウム塩型モノマー、ポリマー、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126678 | スルホニウム塩、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126688 | スルホニウム塩、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126963 | 定着部材、定着装置、及び、画像形成装置 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126964 | 定着部材、定着部材の製造方法、定着装置、及び画像形成装置 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126685 | スルホニウム塩、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-127042 | ガラスコア基板向け応力緩和層用熱硬化性マレイミド樹脂組成物及びそれを含むプリント配線板 | 2026年 8月 5日 | |
| 特開 2026-126357 | ポリシリコンロッド及びポリシリコンロッドの製造方法 | 2026年 8月 4日 | |
| 特開 2026-126457 | 光学系装置 | 2026年 8月 4日 | |
| 特開 2026-124267 | アルケニル基含有環状シロキサン誘導体及びその製造方法、硬化性組成物及びその硬化物 | 2026年 7月31日 | |
| 特開 2026-124027 | アルケニル基含有インドール誘導体 | 2026年 7月31日 |
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2026-127275 2026-126663 2026-126530 2026-126674 2026-126675 2026-126678 2026-126688 2026-126963 2026-126964 2026-126685 2026-127042 2026-126357 2026-126457 2026-124267 2026-124027
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