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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第281位 144件
(2014年:第246位 175件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第262位 107件
(2014年:第206位 201件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2015-232135 | ビフェニルジイルトリヒドロキシベンゼン樹脂、感光性樹脂組成物及び半導体装置 | 2015年12月24日 | |
再表 2013-157643 | ラジカル架橋性基を有するポリシロキサン組成物 | 2015年12月21日 | |
特開 2015-229691 | ポリイミド前駆体組成物及びポリイミドフィルム | 2015年12月21日 | |
再表 2013-150984 | 光学基板、半導体発光素子及び半導体発光素子の製造方法 | 2015年12月17日 | |
再表 2013-154150 | 半導体発光素子用光抽出体及び発光素子 | 2015年12月17日 | |
再表 2013-147071 | 多孔膜及び多層多孔膜 | 2015年12月14日 | |
再表 2013-54900 | ワイヤグリッド偏光板及び投影型映像表示機器 | 2015年12月10日 | |
特開 2015-221859 | エポキシ樹脂用硬化剤、マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物、一液性エポキシ樹脂組成物及び加工品 | 2015年12月10日 | |
特開 2015-222444 | ワイヤグリッド偏光板の製造方法 | 2015年12月10日 | |
特開 2015-219311 | パターン形成用積層体並びにパターン付き基材の製造方法及びパターン付き基材 | 2015年12月 7日 | |
特開 2015-219336 | レジスト材料用感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体 | 2015年12月 7日 | |
特開 2015-219941 | 電解質組成物溶液の製造方法、電解質組成物溶液、電解質膜、膜電極接合体、及び固体高分子電解質型燃料電池 | 2015年12月 7日 | |
特開 2015-215948 | セル積層体および蓄電池 | 2015年12月 3日 | |
特開 2015-212741 | ワイヤグリッド偏光子及びその製造方法 | 2015年11月26日 | |
特開 2015-213074 | レドックスフロー二次電池 | 2015年11月26日 |
144 件中 1-15 件を表示
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2015-232135 2013-157643 2015-229691 2013-150984 2013-154150 2013-147071 2013-54900 2015-221859 2015-222444 2015-219311 2015-219336 2015-219941 2015-215948 2015-212741 2015-213074
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
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2月25日(火) -
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