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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第2121位 11件
(2016年:第801位 37件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第413位 64件
(2016年:第419位 69件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6155673 | 磁気抵抗素子とその製造方法、および磁気記憶装置 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6155848 | 欠陥補正方法、半導体製造装置、半導体製造方法、及び欠陥補正プログラム | 2017年 7月 5日 | |
特許 6149578 | 電子デバイスの製造方法 | 2017年 6月21日 | |
特許 6149634 | 半導体装置及びその製造方法 | 2017年 6月21日 | |
特許 6145972 | 不揮発性ラッチ回路及びメモリ装置 | 2017年 6月14日 | |
特許 6146159 | 半導体装置の製造方法 | 2017年 6月14日 | |
特許 6142710 | 半導体装置及びその設計方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6135321 | 半導体装置及びその製造方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6135445 | 半導体集積回路及び半導体集積回路の動作制御方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6135447 | 半導体装置及びその検査方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6136767 | 半導体記憶装置及びその書き込み方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6127511 | 磁気抵抗素子、これを用いた磁気記憶装置、及びその製造方法 | 2017年 5月17日 | |
特許 6127770 | 半導体装置の製造方法 | 2017年 5月17日 | |
特許 6123349 | マスクパターン補正プログラム、及びフォトマスク | 2017年 5月10日 | |
特許 6123462 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | 2017年 5月10日 |
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6155673 6155848 6149578 6149634 6145972 6146159 6142710 6135321 6135445 6135447 6136767 6127511 6127770 6123349 6123462
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