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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2497位 8件 (2019年:第3655位 5件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第3265位 4件 (2019年:第3203位 4件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-536385 | 有機ラジカルを使用した炭素含有膜の表面処理 | 2020年12月10日 | |
特表 2020-536387 | 有機ラジカルを使用したシリコンまたはシリコンゲルマニウム表面の表面処理 | 2020年12月10日 | |
特表 2020-536389 | 有機前駆体を使用した遠隔のプラズマによる、シリコンと炭素とを含有する膜の表面処理 | 2020年12月10日 | |
特表 2020-516072 | 処理チャンバにおける工作物における材料堆積防止 | 2020年 5月28日 | |
特表 2020-512699 | プラズマ処理装置のためのペデスタルアセンブリ | 2020年 4月23日 | |
特開 2020-57801 | ミリ秒アニールシステムにおける基板支持 | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-508547 | ファラデーシールドに結合された温度制御エレメントを使用した温度制御 | 2020年 3月19日 | |
特表 2020-502794 | 急速熱活性化プロセスと連係した、プラズマを使用する原子層エッチングプロセス | 2020年 1月23日 |
8 件中 1-8 件を表示
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2020-536385 2020-536387 2020-536389 2020-516072 2020-512699 2020-57801 2020-508547 2020-502794
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