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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2561位 8件
(2020年:第2497位 8件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第2874位 5件
(2020年:第3265位 4件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6976345 | ファラデーシールドに結合された温度制御エレメントを使用したプラズマ処理装置 | 2021年12月 8日 | |
特許 6926225 | 処理チャンバにおける工作物における材料堆積防止 | 2021年 8月25日 | |
特許 6873218 | ミリ秒アニールシステムにおける基板支持 | 2021年 5月19日 | |
特許 6861802 | 高アスペクト比構造のためのストリッププロセス | 2021年 4月21日 | |
特許 6861817 | 急速熱活性化プロセスと連係した、プラズマを使用する原子層エッチングプロセス | 2021年 4月21日 |
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6976345 6926225 6873218 6861802 6861817
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3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
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