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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第591位 54件
(
2015年:第469位 69件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第219位 156件
(
2015年:第221位 135件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6011804 | シリカゾルの製造方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6011723 | トリフェニルアミン誘導体およびその利用 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6011537 | 液晶配向処理剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6009017 | アンモニウム基を有する分岐高分子化合物からなる金属微粒子分散剤 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6008152 | 樹脂組成物、液晶配向材および位相差材 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6003882 | 組成物、液晶配向処理剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6003952 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6003977 | 重合体、該重合体を含む組成物、及び単層塗布型水平配向フィルム | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6004083 | 電荷輸送性ワニス | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6004179 | EUVリソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6004172 | カルボニル基含有カルバゾールノボラックを含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6004211 | 有機溶媒分散シリカゾル及び有機溶媒分散シリカゾルの製造方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6004201 | シラノール基含有ポリシロキサン溶液の安定化方法及び安定化シラノール基含有ポリシロキサン溶液の製造方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5999084 | ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 5999107 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2016年 9月28日 |
171 件中 31-45 件を表示
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6011804 6011723 6011537 6009017 6008152 6003882 6003952 6003977 6004083 6004179 6004172 6004211 6004201 5999084 5999107
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