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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第225位 187件 (2019年:第192位 245件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第158位 184件 (2019年:第158位 175件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6792203 | ヒドロゲル形成性組成物及びそれより作られる高強度ヒドロゲル | 2020年11月25日 | |
特許 6792206 | 精製された珪酸水溶液の製造方法 | 2020年11月25日 | |
特許 6792207 | 樹脂組成物 | 2020年11月25日 | |
特許 6792213 | 反応性ポリシロキサン及びそれを含む重合性組成物 | 2020年11月25日 | |
特許 6792248 | エネルギー貯蔵デバイス用集電体、エネルギー貯蔵デバイス用電極及びエネルギー貯蔵デバイス | 2020年11月25日 | |
特許 6786071 | 感光性繊維及び繊維パターンの形成方法 | 2020年11月18日 | |
特許 6787125 | 硬化膜形成用樹脂組成物、硬化膜、導電性部材、及びマイグレーションの抑制方法 | 2020年11月18日 | |
特許 6787313 | カルシウム塩組成物及びそれを用いたフィラグリン産生促進剤 | 2020年11月18日 | |
特許 6784593 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2020年11月11日 | |
特許 6780500 | ディスプレイ基板用樹脂組成物、ディスプレイ基板用樹脂薄膜及びディスプレイ基板用樹脂薄膜の製造方法 | 2020年11月 4日 | |
特許 6781404 | 縮合複素環化合物及び有害生物防除剤 | 2020年11月 4日 | |
特許 6781410 | インドロカルバゾールノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2020年11月 4日 | |
特許 6781414 | フェニルホスホン酸含有シリカゾル及びその用途 | 2020年11月 4日 | |
特許 6775617 | 噴霧ノズルのカバー | 2020年10月28日 | |
特許 6775768 | 剥離層形成用組成物 | 2020年10月28日 |
197 件中 16-30 件を表示
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6792203 6792206 6792207 6792213 6792248 6786071 6787125 6787313 6784593 6780500 6781404 6781410 6781414 6775617 6775768
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11月22日(金) - 大阪 大阪市
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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