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日産化学工業株式会社
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（
2024年：第357位 92件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第196位 154件
（2024年：第182位 187件）
（ランキング更新日：2026年1月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7791508 | レジスト下層膜形成用組成物 | 2025年12月24日 | |
| 特許 7791509 | 薄膜形成用光硬化性組成物 | 2025年12月24日 | |
| 特許 7790360 | 焼成体及び該焼成体を用いた燃料電池 | 2025年12月23日 | |
| 特許 7790524 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及びジアミン | 2025年12月23日 | |
| 特許 7789475 | 細胞保存材料 | 2025年12月22日 | |
| 特許 7788699 | アンモニアの製造方法及び製造装置 | 2025年12月19日 | |
| 特許 7787501 | 脂質ペプチドの製造方法 | 2025年12月17日 | |
| 特許 7787502 | レジスト膜の下層膜形成用感光性樹脂組成物 | 2025年12月17日 | |
| 特許 7787503 | アルミニウム原子含有中空シリカゾル及びその製造方法 | 2025年12月17日 | |
| 特許 7786366 | ポリイミドワニス | 2025年12月16日 | |
| 特許 7786452 | 感光性樹脂組成物 | 2025年12月16日 | |
| 特許 7780127 | 半導体基板の洗浄方法及び加工された半導体基板の製造方法 | 2025年12月 4日 | |
| 特許 7779256 | 架橋剤の変性が抑制されたレジスト下層膜形成組成物 | 2025年12月 3日 | |
| 特許 7779264 | 機能膜付きウエハーの製造方法 | 2025年12月 3日 | |
| 特許 7779266 | 重合体組成物、液晶配向剤、樹脂膜、液晶配向膜、液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子 | 2025年12月 3日 |
167 件中 1-15 件を表示
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7791508 7791509 7790360 7790524 7789475 7788699 7787501 7787502 7787503 7786366 7786452 7780127 7779256 7779264 7779266
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