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日産化学工業株式会社

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  2021年 出願公開件数ランキング    第171位 252件 上昇2020年:第225位 187件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第235位 122件 下降2020年:第158位 184件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6911852 凍結保存用容器 2021年 7月28日
特許 6904537 芳香族ポリアミド及び表面修飾剤 2021年 7月21日
特許 6904538 ハイパーブランチ芳香族ポリアミド及び表面修飾剤 2021年 7月21日
特許 6905213 フレキシブルデバイス基板形成用組成物 2021年 7月21日
特許 6900951 硬化膜形成組成物 2021年 7月14日
特許 6900971 電荷輸送性薄膜形成用ワニス、薄膜の平坦化方法、平坦化薄膜の形成方法及び電荷輸送性薄膜形成用ワニスの製造方法 2021年 7月14日
特許 6901704 レジスト下層膜形成組成物 2021年 7月14日
特許 6902350 脂肪族多環構造含有有機基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 2021年 7月14日
特許 6904332 有機エレクトロルミネッセンス素子 2021年 7月14日
特許 6897690 剥離層の製造方法 2021年 7月 7日
特許 6897936 光反応性液晶組成物、表示素子、光学素子、表示素子の製造方法、光学素子の製造方法 2021年 7月 7日
特許 6898596 多官能エポキシ化合物及びそれを含む硬化性組成物 2021年 7月 7日
特許 6898609 導電膜の製造方法 2021年 7月 7日
特許 6892626 シリル基を有するパーフルオロポリエーテルを含む硬化性組成物 2021年 6月23日
特許 6892633 長鎖アルキル基を有するエポキシ付加体を含むレジスト下層膜形成組成物 2021年 6月23日

140 件中 61-75 件を表示

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6911852 6904537 6904538 6905213 6900951 6900971 6901704 6902350 6904332 6897690 6897936 6898596 6898609 6892626 6892633

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