特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＪＳＲ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＪＳＲ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第164位　327件（2016年：第168位　259件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第171位　186件（2016年：第160位　223件）

（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ＪＳＲ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-44875	感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物	2017年 3月 2日
特開 2017-44928	パターン形成方法	2017年 3月 2日
特開 2017-44929	感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物	2017年 3月 2日
特開 2017-45044	レジストパターン形成方法及び化学増幅型感放射線性樹脂組成物	2017年 3月 2日
特開 2017-45065	レジストパターン形成方法及び保護膜形成用組成物	2017年 3月 2日
再表 2014-171429	半導体素子の製造方法及びイオン注入方法	2017年 2月23日
再表 2014-171446	自己組織化リソグラフィプロセスに用いられる組成物	2017年 2月23日
再表 2014-171506	シリコーン系樹脂用表面改質剤、表面が改質されたシリコーン系樹脂、表面が改質されたコンタクトレンズ、並びに上記樹脂およびレンズの製造方法	2017年 2月23日
再表 2014-178279	凹パターンを有する基材の製造方法、組成物、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイス	2017年 2月23日
再表 2014-185398	重合体組成物、架橋重合体、タイヤ及び重合体	2017年 2月23日
再表 2014-188762	感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤、化合物及び化合物の製造方法	2017年 2月23日
再表 2014-188987	リチウムイオン二次電池用組成物、リチウムイオン二次電池用スラリー、リチウムイオン二次電池用電極、リチウムイオン二次電池用セパレーターおよびリチウムイオン二次電池	2017年 2月23日
再表 2014-192714	光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置	2017年 2月23日
再表 2014-192731	無機材料で構成される表面用の表面処理剤、表面が改質された器具および装置、該器具および装置の製造方法	2017年 2月23日
再表 2014-192877	洗浄用組成物、タンパク質精製方法、及びタンパク質	2017年 2月23日

331 件中 256-270 件を表示

... 18

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2017-44875 2017-44928 2017-44929 2017-45044 2017-45065 2014-171429 2014-171446 2014-171506 2014-178279 2014-185398 2014-188762 2014-188987 2014-192714 2014-192731 2014-192877

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＳＲ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数